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核心技术与设备创新：企业竞争优势的新动力
发布时间：
2024-05-27
优众微纳具有完备的半导体Fab工厂，厂房面积14000平方米，包括百级、千级、万级无尘洁净车间，累计投入超3亿元。公司自成立以来积累了深厚的技术优势。
优众微纳具有完备的半导体Fab工厂，厂房面积14000平方米，包括百级、千级、万级无尘洁净车间，累计投入超3亿元。公司自成立以来积累了深厚的技术优势。
（一）纳米压印技术
纳米压印技术（Nanoimprint Lithography，NIL）是一种用于微纳米尺度精度的微纳制造技术，它通过将模板上的微纳米结构精确地转移到待加工材料上，实现纳米级图案的复制。这种技术在半导体制造领域具有显著的进展，并且因其具有的低成本、高产量、高分辨率等优点，被认为是未来微纳电子与光电子产业的基础技术之一。
（二）技术优势
纳米压印与光刻工艺对比
（三）自主产权的纳米压印设备
公司拥有的自主研发的纳米压印设备在众多性能指标上处于国际领先。纳米压印技术已实现产业化，应用场景人脸识别、微光夜视、AR/VR。
公司已实现成熟稳定的芯片制程工艺。公司拥有顶尖的产品设计能力，强大的设备整合能力，灵活的工艺调整能力并实现与上中下游的技术互补。
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