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【科普知识】微透镜阵列MLA：大面积高质量加工-三维光刻技术
发布时间：
2024-09-04
一、大面积MLA加工新途径
1.紫外三维光刻技术
随着新一轮产业升级，光场3D显示、传感检测、图形化照明、集成成像和光学安全领域，对大面积微透镜阵列（microlens array，MLA ）有迫切需求。必须解决大面积（米级）微透镜阵列或微菲涅尔透镜阵列的数字设计与高质量加工的行业难题，常规微透镜阵列加工技术，已难满足这种新发展需求。近年来，逐渐发展起来一种MLA制备方法-紫外三维光刻技术。凭借其独特的数字化算法和高精度曝光模式，三维光刻方法支持设计制备各类型（口径、面形、焦距、填充因子、面积）MLA模具，微透镜形状精度保持在亚微米甚至纳米精度范围内，下图为紫外三维光刻制备MLA工艺流程图。
三维光刻制备MLA工艺流程
二、MLA高保真复制
批量复制-UV纳米压印技术优选地，采用镍板模具与UV纳米压印光刻系统，在基材表面（薄膜/玻璃)高保真复制MLA。卷对平压纳米压印系统适合在玻璃/硅片/塑料板材等基材表面精密复制；卷对卷纳米压印系统适合在薄膜表面批量化精密复制，速度达10～50米/分钟@米级门幅，各规格型号MLA薄膜都可批量生产。镍板压印模具使用寿命达数万~百万平米，有效降低大面积MLA薄膜的制造成本，UV纳米压印批量品质优良。
不同用途的纳米压印系统
三、MLA的用途
在需要高可靠性和高效率的应用中，具有出色形状精度和排列方式的MLA至关重要，应用范围从光纤耦合的光束转换到激光均质化，到相同波长的激光堆的有效组合，再到光场3D显示、光场成像、投影照明、高灵敏度探测、光学安全和广视阈成像等领域。
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