氮化硅窗口片
适用于：TEM / SEM / AFM / X-Ray / 同步辐射
核心特点：表面粗糙度<0.5nm、耐1000℃、避铜避碳、耐酸碱、机械强度高、超洁净
产品系列：
TEM系列：外框3×3mm，膜厚50/100/200nm，窗口10μm-1000μm
X-Ray系列：外框5×5mm，膜厚50/100/200nm，窗口100μm-2500μm
定制能力：膜厚30-1000nm / 窗口3μm-2.5cm / 硅基底厚100-1000μm / 应力0-1500MPa
关键词：
微结构 | 光学元器件 | 生物检测 | 定制化服务
所属分类：
产品描述
适用于：TEM / SEM / AFM / X-Ray / 同步辐射
核心特点：表面粗糙度<0.5nm、耐1000℃、避铜避碳、耐酸碱、机械强度高、超洁净
产品系列：
TEM系列：外框3×3mm，膜厚50/100/200nm，窗口10μm-1000μm
X-Ray系列：外框5×5mm，膜厚50/100/200nm，窗口100μm-2500μm
定制能力：膜厚30-1000nm / 窗口3μm-2.5cm / 硅基底厚100-1000μm / 应力0-1500MPa
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